CAS Nr.: | - | EINECS Nr.: | - |
Produit Numm: | Tantalkarbidpulver | Model Number: | NM-009 |
Ausgesinn: | Däischter brong Pudder | Markennumm: | RWCHEM |
Form: | Pudder | Applikatioun: | Industrie |
Dimensiounen: | 50-800 nm | Material: | Tantalkarbidpulver |
Chemesch Zesummesetzung: | Tantalkarbidpulver | Puritéit: | 99,9% |
Plaz vun Urspronk: | Shanghai, China (Festland) | Duerchschnëtt Partikelgréisst (nm): | 800 |
Spezifesch Fläch (m 2 / g): | 32.8 | Bulk Dicht (g/cm 3): | 3.10 |
Technesch Parameteren
Produkter sinn klasséiert | Duerchschnëtt Partikelgréisst (nm) | Rengheet (%) | Spezifesch Fläch (m2 / g) | Bulk Dicht (g/cm3) | Polymorphen | Faarf |
Nanoskala | 100 | >99,9 | 32.8 | 3.10 | Kubikzentimeter | Donkelbrong |
Submikron | 800 | >99,8 | 8,38 | 4.10 | Kubikzentimeter | Brong |
Main Charakteristiken
Ultrafine Nano Tantal Carbide, Tantal Carbide Pudder duerch variabel aktuell Laser Ionenstrahl, chemesch Dampdepositioun) Pulver Granularitéit eenheetlech, einfach Dispersioun, schwéier a schwéier, héich chemesch Stabilitéit a gutt Leeschtung vun héijer Temperatur, Anti-Oxidatiounsfäegkeet, elektresch Konduktivitéit.14,5 g/cm3 Dicht, Schmelzpunkt 38750 c, de Kachpunkt vun 55000 c.Tantalkarbid superfein Pudder ass e wichtegt Metallkeramikmaterial, fir de Legierungskornwachstum z'ënnerdrécken an d'Organisatiounsstruktur fir den Haaptzweck ze verbesseren an TaC, NbC, Cr2C3, VC an aner selten Metallkarbiden ze addéieren, egal ob et eng Produktioun vu grober Käre wéi z. als Biergbau Handwierksgeschir oder Ronn Bar ultrafine Kär durchgang, soll niddereg Partikelgréisst vun seelen Metal Carbides wielen, well vun der dobäi vun rare Metal Carbides ass Spuer, ass et just op d'Aktioun vun WC Partikelgréisst ajustéieren an der Organisatioun Struktur verbesseren, dofir , wäert hoffen Zousätz der fein verspreet der besser d'Resultater.Besonnesch fir Ronn Bar an sou op ultrafine Getreidelegierung Additiv wann ze déck ass, wäert et de Metal Clip bilden, dat ass, natierlech, ass net passend.
Applikatioun
1 ultrafine Nano Tantal Carbide, Tantal Carbide Pudder an der Pulvermetallurgie benotzt, Schneidinstrumenter, Präzisioun Keramik, chemesch Dampdepositioun, haart verschleißbeständeg Legierungsadditive, fir d'Zähegkeet vun der Legierung ze verbesseren;
2 ultrafine Nano Tantal Carbide, Tantal Carbide Pudder als Wolfram Carbide Getreidemëttel, kann selbstverständlech d'Legierungseigenschaften verbesseren.
Shanghai Runwu Chemical Technology Co. Ltd ass eng chemesch Entreprise Produkt R & D, Produktioun, Verkaf, als ee vun den Detektioun.Mir hänken op staark Fuerschungsfäegkeeten a reife Technologie, hunn e séieren Opstig an der chemescher Industrie, vertrauen op Wëssenschaft an Technologie Entwécklung, fir Clienten mat qualitativ héichwäerteg Produkter ze bidden ass eis konstant Verfollegung.
Mir beschäftegen eis haaptsächlech mat organeschen Zwëscheprodukter, Edelmetallkatalysator, Nanomaterialien, selten Äerd.Dës Materialien gi wäit an der Chimie, Medizin, Biologie, Ëmweltschutz, nei Energie, etc.
Mat éischt-Klass Produit Qualitéit an super technesch Servicer, Mir hunn de Luef vun Douane gewonnen.Zur selwechter Zäit, an der Entwécklung, halen eis Firma un Zesummenaarbecht mat auslänneschen an auslännesche Firmen, wëssenschaftleche Fuerschungsinstituter, Universitéitenaustausch, fir R & D a Produktiounskapazitéit ze verbesseren, engagéiert fir Clienten méi Qualitéitsprodukter a Servicer ze bidden.
Gratis Echantillon
Gratis Echantillon fir Qualitéit Evaluatioun verfügbar
Fabréck
Factory Audit wëllkomm
Uerdnung
Kleng Bestellung akzeptabel