તકનીકી પરિમાણો

મુખ્ય લાક્ષણિકતાઓ

નેનો નિકલ પાવડર, અલ્ટ્રાફાઇન નિકલ પાવડર ખાસ પ્રક્રિયા પદ્ધતિ દ્વારા તૈયાર કરવામાં આવે છે, જે ઇલેક્ટ્રોલાઇટિક નિકલ પાવડરને જોડે છે, અને નિકલ પાવડર અને એટોમાઇઝ્ડ નિકલ પાવડરના ફાયદાઓને એકમાં પુનઃસ્થાપિત કરવા માટે, ઉચ્ચ શુદ્ધતા નિકલ સામગ્રી 99.5% કરતા ઓછી નથી, કાર્બન, ફોસ્ફરસ, સલ્ફર, ઓક્સિજન અને અન્ય તત્વોની ઓછી સામગ્રી, નિયંત્રિત કણોનું કદ, નિયંત્રિત પાવડર કમ્પ્રેશન કામગીરી કરતાં ઢીલું, સારી ગતિશીલતા.

એપ્લિકેશન

નેનોસ્કેલ આયર્ન, કોબાલ્ટ નેનો, નેનો નિકલ નેનો-એલોય પાઉડરનો ઉપયોગ કરીને મેગ્નેટિક પ્રવાહી ઉત્કૃષ્ટ પ્રદર્શન દ્વારા ઉત્પાદિત ચુંબકીય પ્રવાહી, ભીનાશ, તબીબી સાધનો, ધ્વનિ નિયંત્રણ, પ્રકાશ પ્રદર્શનને સીલ કરવા માટે વ્યાપકપણે ઉપયોગમાં લઈ શકાય છે;

કાર્યક્ષમ ઉત્પ્રેરક: નેનો-નિકલ અલ્ટ્રાફાઇન નિકલ પાવડર વિશાળ ચોક્કસ સપાટી વિસ્તાર અને નેનોસાઇઝ્ડ નિકલ પાવડરની ઉચ્ચ પ્રવૃત્તિને કારણે મજબૂત ઉત્પ્રેરક અસર ધરાવે છે, તેનો ઉપયોગ કાર્બનિક હાઇડ્રોજનેશન, ઓટોમોટિવ એક્ઝોસ્ટ ગેસમાં થઈ શકે છે;

3 કાર્યક્ષમ પ્રવેગક: રોકેટના ઘન બળતણ પ્રોપેલન્ટમાં ઉમેરવામાં આવેલ નેનો-નિકલ પાવડર બળતણના દહનની ગતિ, કમ્બશન હીટ, કમ્બશનની સ્થિરતામાં નોંધપાત્ર સુધારો કરી શકે છે:

4 વાહક પેસ્ટ: ઈલેક્ટ્રોનિક પેસ્ટનો ઉપયોગ માઈક્રોઈલેક્ટ્રોનિક ઉદ્યોગમાં વાયરિંગ, પેકેજીંગમાં વ્યાપકપણે થાય છે, માઈક્રોઈલેક્ટ્રોનિક ઉપકરણોના લઘુચિત્રીકરણમાં કનેક્ટિવિટી મહત્વની ભૂમિકા ભજવે છે.નિકલ, કોપર, એલ્યુમિનિયમ, ઈલેક્ટ્રોનિક સ્લરીથી બનેલા સિલ્વર નેનો પાઉડરની શ્રેષ્ઠ કામગીરી સાથે, લાઇનને વધુ લઘુત્તમીકરણ;

5 ઉચ્ચ-પ્રદર્શન ઇલેક્ટ્રોડ સામગ્રી: નેનો-નિકલ પાવડર, અને સહાયક અને યોગ્ય તકનીક, વિશાળ સપાટી વિસ્તાર બનાવી શકે છે ઇલેક્ટ્રોડ્સ સ્રાવ કાર્યક્ષમતામાં નોંધપાત્ર રીતે સુધારો કરી શકે છે;

સક્રિય sintering ઉમેરણો: સપાટી વિસ્તાર અને સપાટી પરમાણુ પ્રમાણ કારણે નેનો પાવડર, અને તેથી નીચા તાપમાને એક ઉચ્ચ ઊર્જા રાજ્ય sintering છે, ત્યાં અસરકારક sintering ઉમેરણો નોંધપાત્ર રીતે પાવડર ધાતુશાસ્ત્ર ઉત્પાદનો અને ઉચ્ચ તાપમાન સિરામિક ઉત્પાદનો sintering તાપમાન ઘટાડી શકે છે;

7, મેટલ અને નોન-મેટાલિક વાહક કોટિંગ પ્રોસેસિંગની સપાટી: નેનો એલ્યુમિનિયમ, નેનો કોપર, નેનો નિકલ-સક્રિય સપાટી, કોટિંગના પાવડર ગલનબિંદુથી નીચેના તાપમાનમાં એનારોબિક પરિસ્થિતિઓમાં.આ તકનીકને માઇક્રોઇલેક્ટ્રોનિક ઉપકરણોના ઉત્પાદન માટે લાગુ કરી શકાય છે.