તકનીકી પરિમાણો

અમે નેનોમીટર ટેન્ટેલમ પાવડરની ઉચ્ચ શુદ્ધતા સપ્લાય કરીએ છીએ.

મુખ્ય લાક્ષણિકતાઓ

ગેસ તબક્કા પ્રક્રિયાની ચલ વર્તમાન લેસર આયન બીમ પદ્ધતિ દ્વારા નેનોમીટર ટેન્ટેલમ પાવડર, ઉચ્ચ શુદ્ધતા, સમાન કણોનું કદ, સપાટીનું માળખું, સંપૂર્ણ અને ચોક્કસ સપાટી વિસ્તાર, ઉચ્ચ સપાટીની પ્રવૃત્તિ.નેનો ટેન્ટેલમ ઘનતા 16.5 g/cm3, ગલનબિંદુ 2800 ડિગ્રી છે.ટેન્ટેલમ કેપેસિટર લશ્કરી ઇલેક્ટ્રોનિક ક્ષેત્રના કેપેસિટર ઉત્પાદનોમાં સૌથી વધુ ઉપયોગમાં લેવાય છે, ઇલેક્ટ્રોનિક ઉત્પાદનનું કદ નાનું અને નાનું થતું જાય છે, ટેન્ટેલમ કેપેસિટર માટે મિનિએચરાઇઝેશનની દિશામાં વિકાસ થાય છે, ઉચ્ચ ક્ષમતા, ટેન્ટેલમ પાવડર ચોક્કસ ક્ષમતા કણોની ઘનતા, કણોના કદ સાથે ગાઢ રીતે સંબંધિત છે. બરાબર છે, ચોક્કસ ક્ષમતા જેટલી વધારે છે, તેથી નેનોમીટર ટેન્ટેલમ પાવડરની તૈયારી, ટેન્ટેલમ કેપેસિટરના વિકાસને પ્રોત્સાહન આપે છે.

એપ્લિકેશન

તેની નમ્રતા, ઉચ્ચ તાપમાન પ્રતિરોધક અને કાટ પ્રતિરોધક ગુણધર્મોને લીધે, રાસાયણિક ઉદ્યોગ, ઇલેક્ટ્રોનિક્સ, લશ્કરી, મિકેનિકલ અને એરોસ્પેસ અને અન્ય ક્ષેત્રોમાં વ્યાપકપણે ઉપયોગમાં લેવાતા ઉદ્યોગ, ઇલેક્ટ્રોનિક મૂળ, ગરમી પ્રતિરોધક સામગ્રી, કાટ પ્રતિરોધક સાધનો, ઉત્પ્રેરક, મોલ્ડ, અદ્યતન ઓપ્ટિકલ ઉત્પાદન. કાચ, વગેરે, સામગ્રી, સર્જીકલ સામગ્રી અને કોન્ટ્રાસ્ટ એજન્ટોમાં દવા પર તબીબી તરીકે પણ વપરાય છે.