פרמטרים טכניים

אנו מספקים טוהר גבוה של אבקת טנטלום ננומטרית.

מאפיינים עיקריים

אבקת טנטלום ננומטרית בשיטת קרן לייזר יון לייזר משתנה של תהליך שלב הגז, טוהר גבוה, גודל חלקיקים אחיד, מבנה פני השטח, שטח פנים שלם וספציפי, פעילות פני השטח גבוהה.צפיפות ננו טנטלום של 16.5 גרם/סמ"ק, נקודת התכה היא 2800 מעלות.קבל טנטלום הוא הנפוצה ביותר במוצרי קבלי שדה אלקטרוניים צבאיים, גודל המוצר האלקטרוני הופך קטן יותר ויותר, עבור קבלי טנטלום להתפתח בכיוון של מזעור, קיבולת גבוהה, קיבולת ספציפית של אבקת טנטלום קשורה קשר הדוק לצפיפות החלקיקים, גודל החלקיקים הוא בסדר, ככל שהקיבולת הספציפית גדולה יותר, כך שהכנת אבקת טנטלום ננומטרית, מקדמת את הפיתוח של קבל הטנטלום.

יישום

בשל הגמישות שלה, תכונות עמידות בטמפרטורה גבוהה ועמיד בפני קורוזיה, תעשייה בשימוש נרחב בתעשייה הכימית, אלקטרוניקה, צבאית, מכאנית וחלל ותחומים אחרים, ייצור מקורי אלקטרוני, חומרים עמידים בחום, ציוד עמיד בפני קורוזיה, זרז, עובש, אופטי מתקדם זכוכית, וכו ', משמש גם כתרופה על רפואה לתוך החומר, חומר כירורגי וחומרי ניגוד.