तांत्रिक मापदंड

आम्ही उच्च शुद्धता नॅनोमीटर टँटलम पावडर पुरवतो.

मुख्य वैशिष्ट्ये

गॅस फेज प्रक्रियेची व्हेरिएबल करंट लेसर आयन बीम पद्धत, उच्च शुद्धता, एकसमान कण आकार, पृष्ठभागाची रचना, संपूर्ण आणि विशिष्ट पृष्ठभागाचे क्षेत्रफळ, उच्च पृष्ठभाग क्रियाकलाप.नॅनो टँटलम घनता 16.5 g/cm3, वितळण्याचा बिंदू 2800 अंश आहे.टँटलम कॅपेसिटर हे लष्करी इलेक्ट्रॉनिक फील्ड कॅपेसिटर उत्पादनांमध्ये मोठ्या प्रमाणावर वापरले जाते, इलेक्ट्रॉनिक उत्पादनाचा आकार लहान आणि लहान होत जातो, टँटलम कॅपेसिटर सूक्ष्मीकरणाच्या दिशेने विकसित होण्यासाठी, उच्च क्षमता, टँटलम पावडर विशिष्ट क्षमता कणांच्या घनतेशी जवळून संबंधित आहे, कण आकार. ठीक आहे, विशिष्ट क्षमता जितकी जास्त असेल, त्यामुळे नॅनोमीटर टँटलम पावडर तयार करणे, टँटलम कॅपेसिटरच्या विकासास प्रोत्साहन देते.

ऍप्लिकेशन

त्याच्या निंदनीयतेमुळे, उच्च तापमान प्रतिरोधक आणि गंज प्रतिरोधक गुणधर्म, रासायनिक उद्योग, इलेक्ट्रॉनिक्स, लष्करी, यांत्रिक, आणि एरोस्पेस आणि इतर क्षेत्रांमध्ये मोठ्या प्रमाणावर वापरले जाणारे उद्योग, इलेक्ट्रॉनिक मूळ, उष्णता प्रतिरोधक साहित्य, गंज प्रतिरोधक उपकरणे, उत्प्रेरक, साचा, प्रगत ऑप्टिकल निर्मिती. काच, इत्यादी, सामग्री, शस्त्रक्रिया सामग्री आणि कॉन्ट्रास्ट एजंट्समध्ये औषधोपचार म्हणून देखील वापरले जाते.