| ਤਕਨੀਕੀ ਮਾਪਦੰਡ | ਉਤਪਾਦ ਵਰਗੀਕ੍ਰਿਤ ਹਨ | ਮਾਡਲ | ਔਸਤ ਕਣ ਦਾ ਆਕਾਰ (nm) | ਸ਼ੁੱਧਤਾ (%) | ਖਾਸ ਸਤਹ ਖੇਤਰ (m2/ ਜੀ) | ਬਲਕ ਘਣਤਾ (g/cm3) | ਪੋਲੀਮੋਰਫਸ | ਰੰਗ | | ਨੈਨੋਸਕੇਲ | DK-Ni-001 | 50 | > 99.9 | 23.2 | 0.22 | ਲਗਭਗ ਗੋਲਾਕਾਰ | ਕਾਲਾ | | ਸਬਮਾਈਕ੍ਰੋਨ | DK-Ni-002 | 600 | > 99.0 | 3.80 | 1.49 | ਗਲੋਬੂਲਰ | ਸਲੇਟੀ |
ਦੀਆਂ ਮੁੱਖ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂਨੈਨੋ-ਨਿਕਲ ਪਾਊਡਰ, ਇੱਕ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਵਿਧੀ ਦੁਆਰਾ ਤਿਆਰ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਅਲਟਰਾਫਾਈਨ ਨਿਕਲ ਪਾਊਡਰ, ਜੋ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਲਾਈਟਿਕ ਨਿਕਲ ਪਾਊਡਰ ਨੂੰ ਜੋੜਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਇੱਕ ਵਿੱਚ ਨਿੱਕਲ ਪਾਊਡਰ ਅਤੇ ਐਟੋਮਾਈਜ਼ਡ ਨਿਕਲ ਪਾਊਡਰ ਦੇ ਫਾਇਦਿਆਂ ਨੂੰ ਬਹਾਲ ਕਰਨ ਲਈ, ਉੱਚ-ਸ਼ੁੱਧਤਾ ਨਿਕਲ ਦੀ ਸਮੱਗਰੀ 99.5% ਤੋਂ ਘੱਟ ਨਹੀਂ, ਕਾਰਬਨ , ਫਾਸਫੋਰਸ, ਗੰਧਕ, ਆਕਸੀਜਨ ਅਤੇ ਹੋਰ ਤੱਤਾਂ ਦੀ ਘੱਟ ਸਮੱਗਰੀ, ਨਿਯੰਤਰਿਤ ਕਣਾਂ ਦਾ ਆਕਾਰ, ਨਿਯੰਤਰਿਤ ਪਾਊਡਰ ਕੰਪਰੈਸ਼ਨ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਨ ਨਾਲੋਂ ਢਿੱਲਾ, ਚੰਗੀ ਗਤੀਸ਼ੀਲਤਾ।
ਐਪਲੀਕੇਸ਼ਨਾਂ
ਨੈਨੋਸਕੇਲ ਆਇਰਨ, ਕੋਬਾਲਟ ਨੈਨੋ, ਨੈਨੋ ਨਿਕਲ ਨੈਨੋ-ਐਲੋਏ ਪਾਊਡਰ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਦੇ ਹੋਏ ਇੱਕ ਚੁੰਬਕੀ ਤਰਲ ਚੁੰਬਕੀ ਤਰਲ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਨ ਸ਼ਾਨਦਾਰ ਦੁਆਰਾ ਤਿਆਰ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਹੈ, ਵਿਆਪਕ ਤੌਰ 'ਤੇ ਡੈਂਪਿੰਗ, ਮੈਡੀਕਲ ਉਪਕਰਣ, ਧੁਨੀ ਨਿਯੰਤਰਣ, ਲਾਈਟ ਡਿਸਪਲੇਅ ਨੂੰ ਸੀਲ ਕਰਨ ਲਈ ਵਰਤਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ;
ਕੁਸ਼ਲ ਉਤਪ੍ਰੇਰਕ: ਨੈਨੋ-ਨਿਕਲ ਅਲਟਰਾਫਾਈਨ ਨਿਕਲ ਪਾਊਡਰ ਦੇ ਕਾਰਨ ਵੱਡੇ ਖਾਸ ਸਤਹ ਖੇਤਰ ਅਤੇ ਨੈਨੋਸਾਈਜ਼ਡ ਨਿਕਲ ਪਾਊਡਰ ਦੀ ਉੱਚ ਗਤੀਵਿਧੀ ਦਾ ਇੱਕ ਮਜ਼ਬੂਤ ਉਤਪ੍ਰੇਰਕ ਪ੍ਰਭਾਵ ਹੁੰਦਾ ਹੈ, ਜੈਵਿਕ ਹਾਈਡ੍ਰੋਜਨੇਸ਼ਨ, ਆਟੋਮੋਟਿਵ ਐਗਜ਼ੌਸਟ ਗੈਸ ਵਿੱਚ ਵਰਤਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ;
3 ਕੁਸ਼ਲ ਐਕਸਲਰੈਂਟ: ਰਾਕੇਟ ਦੇ ਠੋਸ ਈਂਧਨ ਪ੍ਰੋਪੈਲੈਂਟ ਵਿੱਚ ਸ਼ਾਮਲ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਨੈਨੋ-ਨਿਕਲ ਪਾਊਡਰ, ਬਲਨ ਦੀ ਸਥਿਰਤਾ ਵਿੱਚ ਸੁਧਾਰ ਕਰਕੇ, ਬਾਲਣ ਦੀ ਬਲਨ ਦੀ ਗਤੀ, ਬਲਨ ਦੀ ਗਰਮੀ ਵਿੱਚ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਸੁਧਾਰ ਕਰ ਸਕਦਾ ਹੈ:
4 ਕੰਡਕਟਿਵ ਪੇਸਟ: ਇਲੈਕਟ੍ਰਾਨਿਕ ਪੇਸਟ ਨੂੰ ਮਾਈਕ੍ਰੋਇਲੈਕਟ੍ਰੋਨਿਕ ਉਦਯੋਗ ਵਿੱਚ ਵਾਇਰਿੰਗ, ਪੈਕੇਜਿੰਗ, ਕਨੈਕਟੀਵਿਟੀ ਵਿੱਚ ਵਿਆਪਕ ਤੌਰ 'ਤੇ ਵਰਤਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਮਾਈਕ੍ਰੋਇਲੈਕਟ੍ਰੋਨਿਕ ਡਿਵਾਈਸਾਂ ਦੇ ਛੋਟੇਕਰਨ ਵਿੱਚ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਭੂਮਿਕਾ ਨਿਭਾਉਂਦਾ ਹੈ।ਨਿਕਲ, ਤਾਂਬਾ, ਐਲੂਮੀਨੀਅਮ, ਸਿਲਵਰ ਨੈਨੋ ਪਾਊਡਰ ਇਲੈਕਟ੍ਰਾਨਿਕ ਸਲਰੀ ਦੇ ਬਣੇ ਵਧੀਆ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਨ ਦੇ ਨਾਲ, ਲਾਈਨ ਨੂੰ ਹੋਰ ਛੋਟਾ ਕਰਨਾ;
5 ਉੱਚ-ਕਾਰਗੁਜ਼ਾਰੀ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਡ ਸਮੱਗਰੀ: ਨੈਨੋ-ਨਿਕਲ ਪਾਊਡਰ, ਅਤੇ ਸਹਾਇਕ ਅਤੇ ਢੁਕਵੀਂ ਤਕਨਾਲੋਜੀ, ਇੱਕ ਵਿਸ਼ਾਲ ਸਤਹ ਖੇਤਰ ਬਣਾ ਸਕਦੇ ਹਨ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਡ ਡਿਸਚਾਰਜ ਕੁਸ਼ਲਤਾ ਵਿੱਚ ਮਹੱਤਵਪੂਰਨ ਸੁਧਾਰ ਕਰ ਸਕਦੇ ਹਨ;
ਸਰਗਰਮ sintering additives: ਸਤਹ ਖੇਤਰ ਅਤੇ ਸਤਹ ਪਰਮਾਣੂ ਅਨੁਪਾਤ ਦੇ ਕਾਰਨ ਨੈਨੋ ਪਾਊਡਰ, ਅਤੇ ਇਸ ਲਈ ਹੇਠਲੇ ਤਾਪਮਾਨ 'ਤੇ ਇੱਕ ਉੱਚ ਊਰਜਾ ਰਾਜ sintering ਹੈ, ਉੱਥੇ ਇੱਕ ਪ੍ਰਭਾਵਸ਼ਾਲੀ sintering additives ਪਾਊਡਰ ਧਾਤੂ ਉਤਪਾਦ ਅਤੇ ਉੱਚ-ਤਾਪਮਾਨ ਵਸਰਾਵਿਕ ਉਤਪਾਦ ਦੇ sintering ਤਾਪਮਾਨ ਨੂੰ ਘੱਟ ਕਰ ਸਕਦਾ ਹੈ;
7, ਧਾਤ ਦੀ ਸਤਹ ਅਤੇ ਗੈਰ-ਧਾਤੂ ਸੰਚਾਲਕ ਕੋਟਿੰਗ ਪ੍ਰੋਸੈਸਿੰਗ: ਨੈਨੋ ਅਲਮੀਨੀਅਮ, ਨੈਨੋ ਕਾਪਰ, ਨੈਨੋ ਨਿਕਲ-ਐਕਟੀਵੇਟਿਡ ਸਤਹ, ਕੋਟਿੰਗ ਦੇ ਪਾਊਡਰ ਪਿਘਲਣ ਵਾਲੇ ਬਿੰਦੂ ਤੋਂ ਹੇਠਾਂ ਤਾਪਮਾਨ ਵਿੱਚ ਐਨਾਇਰੋਬਿਕ ਹਾਲਤਾਂ ਵਿੱਚ.ਇਸ ਤਕਨੀਕ ਨੂੰ ਮਾਈਕ੍ਰੋਇਲੈਕਟ੍ਰੋਨਿਕ ਉਪਕਰਨਾਂ ਦੇ ਉਤਪਾਦਨ 'ਤੇ ਲਾਗੂ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ।
|
